超高純度フッ化水素酸
名称 | 超高純度フッ化水素酸 |
---|---|
英名 | Ultra High Purity Hydrofluoric Acid |
化学式 | HF |
既存化学物質番号 | 1-306 |
用途 |
|
包装形態 |
|
説明 | 半導体・FPD製造プロセスでは、ますます微細化、高機能化が要求されており、様々な加工プロセスのなかで半導体シリコン基板の洗浄の重要性が非常に高くなっています。フッ化水素酸はシリコン酸化膜をエッチング除去する特質を持っており、半導体シリコン基板の洗浄プロセスの中でも不可欠な微細加工技術です。特に希フッ酸洗浄は、現在の多段洗浄工程の最終洗浄に用いられ、半導体ウェットエッチングの中でも非常に高いクリーン度が要求されます。また、極めて高いクリーン度が要求される装置部材の洗浄にも超高純度フッ化水素酸が用いられます。 |
SDS | ダウンロード |
関連製品
製品に関するご質問・お問い合わせはこちらお気軽にお問い合わせください
お電話からお問い合わせ
- 大阪06-4707-1515
- 東京03-5219-8111
営業部 9時~17時40分(土・日・祝日・当社指定の休業日を除く)