◆用途
   ＬＳＩの高集積化に伴い回路の線幅は微細・複雑化し、近年では露光装置にＫｒＦのエキシマレーザーが使用されています。しかし、石英ガラスを使用したレンズでは、0.25μｍの線幅を焼き付けるＫｒＦレーザーの使用が耐久性の限界と言われています。
   フッ化カルシウムレンズは光の透過性が高い上、ＡｒＦ、Ｆ_２レーザーの耐久性にも優れており、0.10-0.20μｍの線幅では必要不可欠な材料であります。ステラケミファでは、今後ともステッパー需要に対応すべく積極的に設備増強に取組んでいきます。